一、行業簡介
        半導體（tǐ）、集成電路芯片及封（fēng）裝、液晶顯示、高精度線路（lù）板、光（guāng）電器件、各種（zhǒng）電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成（chéng）電路需用大量的純水、高純水、超（chāo）純水（shuǐ）清洗半成品、成品。集（jí）成電路的集成度越高（gāo），線寬越窄，對水質的（de）要（yào）求也（yě）越高。目前（qián）我國電子工業部把電子級水質技術分為五（wǔ）個（gè）行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分（fèn）不同水質。
二、應用範圍（wéi）
1、電（diàn）子、電力、電鍍、照明電（diàn）器、實驗室、食（shí）品、造紙、日化（huà）、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製（zhì）藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑（jì）、化妝品等用純水。
3、單（dān）晶矽、半導體晶（jīng）片切割（gē）製造、半（bàn）導體芯片、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶（jīng）顯示器、導（dǎo）電（diàn）玻璃、顯像管、線路板（bǎn）、光通信、電腦元件、電容器潔淨產品及各種元器件等生產工藝用純水。
三、工藝簡介（jiè）
1、係統模塊化設計，共分四部分：預處理係統、反（fǎn）滲透係統、EDI係統、終端供水係統。
2、預處理係統主要（yào）用來去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以及部（bù）分有機物，保證產（chǎn）水符合反滲透係統的進水水質要求。
3、反（fǎn）滲透係統主（zhǔ）要用來去除原水中溶解性鹽類物質、細菌、熱源等，保證產水符合EDI係統進水水質要求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進行進一步（bù）脫（tuō）除溶解性的小（xiǎo）分（fèn）子鹽類物質（zhì），產水（shuǐ）達到電阻（zǔ）率達到15MΩ.cm以上。
5、終端供水係統主要是用來將（jiāng）合格水輸送至（zhì）用水（shuǐ）點，輸送過程中（zhōng）對EDI產生進行最後的離子交換脫（tuō）鹽，使得（dé）產水達到電阻率達（dá）到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行（háng）集（jí）中控製。

四、技術特色
1、係統模塊化（huà）設計，占地麵積（jī）小（xiǎo），操作維護方便，安裝方便快捷，整體美觀。
2、整套係（xì）統（tǒng）實現全自（zì）動化運行，並且手（shǒu）動與自動自（zì）由切換。
3、設備產水水質穩定，運行連續穩定。
4、係統工藝先進，無需化學藥品再生，無危害性廢液排放。
5、係統節水率高，係統回收率在75%以（yǐ）上。
6、關鍵部位采用在線儀表監測，適時數據（jù）上傳。
五、設備參數
1、係統回收率：
        超（chāo）濾（lǜ）≥90%
        一級反滲（shèn）透≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產水（shuǐ）符合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體工業純（chún）水指標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。