一、行業簡介
        半導體、集成電（diàn）路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大（dà）規模、超大（dà）規模（mó）集成電路需（xū）用大量的純水、高純水、超純（chún）水清洗半（bàn）成品、成品。集成電路的集成度越高，線（xiàn）寬越窄，對水質的要求也越高（gāo）。目前我國電子工業部把電子級水質技（jì）術（shù）分為五個行業等級，分（fèn）別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
二、應用範圍
1、電子、電力、電鍍、照明（míng）電器、實驗室、食品、造紙、日化（huà）、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥、石油（yóu）、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥（yào）劑、化妝品等用純水。
3、單晶矽（guī）、半導體（tǐ）晶片切割製造、半（bàn）導體芯片、半導體封裝 、引線櫃架、集成電（diàn）路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板（bǎn）、光通（tōng）信（xìn）、電腦元（yuán）件、電容器潔淨產品及各種元器件（jiàn）等生產工藝用純水。
三、工藝簡介
1、係統模塊化設計，共分四部分：預處理係統、反滲透係統、EDI係統、終端供水係統（tǒng）。
2、預處理係統主要用來去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以及部分有機物（wù），保證產水符（fú）合反滲透係統的（de）進水水質要求。
3、反滲（shèn）透（tòu）係（xì）統主要用來去除原水（shuǐ）中溶解（jiě）性鹽類物質、細菌、熱（rè）源等，保證產水符（fú）合EDI係統進水水質要（yào）求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產（chǎn）水進行進一步脫除溶解性的小分子鹽類（lèi）物質，產水達到電阻率達到15MΩ.cm以上（shàng）。
5、終端供水係統主要是用來將合格水輸送至用水（shuǐ）點，輸送過程中對EDI產生進行最後的離子交換脫鹽，使得產水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行（háng）集中控（kòng）製。

四、技術特色
1、係統（tǒng）模塊（kuài）化設計，占地麵積小，操作維護方便，安裝方（fāng）便快捷，整（zhěng）體美觀。
2、整套係統實現全自動化運行，並且（qiě）手動與自動自由切換。
3、設備產（chǎn）水（shuǐ）水質穩（wěn）定（dìng），運行連續穩定。
4、係統工藝先進，無需化學藥品再生（shēng），無危害性廢液排（pái）放。
5、係統（tǒng）節水率高，係統回收率在75%以上。
6、關鍵（jiàn）部位采用在線儀（yí）表監測，適時數（shù）據上傳。
五、設備參數
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一級反滲透≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產水符合《電子超純水國家標（biāo）準》 （GB/T1144.6.1-1997）或（huò）美國半導體工業純水指標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫（wēn）25℃）。